Фоторезист RS-1200 для металлизации и травления
Фоторезист RS-1200 состоит из одной компоненты и использует контактное УФ-экспонирование.
Он проявляется в щелочном растворе и стоек к металлизации и травлению.
RS-1200 широко используется в сеткографической печати при производстве односторонних, двухсторонних и многослойных
печатных плат, а также в металлогравировке.
Данный резист имеет отличную стойкость к кислотным и щелочным растворам,
отличную металлостойкость
к меди, олову-свинцу, никелю-золоту.
Характеристики этого материала лучше, чем у сухого пленочного фоторезиста.
Технические характеристики:
Наименование |
Параметры |
Замечания |
Обработка поверхности |
Обработка кислотой --> матирование --> промывка --> сушка --> обеспыливание |
- |
Печать |
Сетка: 68-100Т, угол ракеля: 60-80o |
- |
Подсушивание |
Первая сторона: 76+2oC 8-12 мин Вторая сторона: 76+2oC 15-25 мин |
- |
Экспонирование |
21 ступенчатая полоска, 7~9 ступень, 120-180 мДж/см2 |
- |
Проявка |
Проявитель: 0.8%-1.2% раствор Na2CO3
Температура: 30+2oC
Давление струи: 0.2-0.25 Mpa
Время: 40-60 сек PH: 10.5-11.5
|
- |
Стойкость к травлению |
кислотный / щелочной травящий раствор |
- |
Удаление резистной пленки |
5% NaOH, 50+5oC, 60-120 сек |
- |