оборудование и расходные материалы для различных отраслей промышленностиДИАХРОМ
О компанииНовости и событияПродукцияЗаказАкции и спецпредложенияПартнерыКонтакты

Фоторезист RS-1200 для металлизации и травления


Фоторезист RS-1200 состоит из одной компоненты и использует контактное УФ-экспонирование.
Он проявляется в щелочном растворе и стоек к металлизации и травлению.
RS-1200 широко используется в сеткографической печати при производстве односторонних, двухсторонних и многослойных печатных плат, а также в металлогравировке.
Данный резист имеет отличную стойкость к кислотным и щелочным растворам, отличную металлостойкость
к меди, олову-свинцу, никелю-золоту.
Характеристики этого материала лучше, чем у сухого пленочного фоторезиста.

Технические характеристики:
Наименование Значение Пояснение
Цвет Голубой -
Вязкость 70+10 dPa*s (25oС) -
Чистота <5 мкм -
Твердость >2H -
Адгезия 100/100 -
Стойкость к металлизации медь, олово-свинец, никель -
Разрешение 0.05 мм (50 мкм) -
Срок хранения после изготовления производителем 6 месяцев (не выше 25oC в темном месте) После изготовления производителем



Технологическая процедура:
Наименование Параметры Замечания
Обработка поверхности Обработка кислотой --> матирование --> промывка --> сушка --> обеспыливание -
Печать Сетка: 68-100Т, угол ракеля: 60-80o -
Подсушивание Первая сторона: 76+2oC 8-12 мин
Вторая сторона: 76+2oC 15-25 мин
-
Экспонирование 21 ступенчатая полоска, 7~9 ступень, 120-180 мДж/см2 -
Проявка Проявитель: 0.8%-1.2% раствор Na2CO3
Температура: 30+2oC
Давление струи: 0.2-0.25 Mpa
Время: 40-60 сек
PH: 10.5-11.5
-
Стойкость к травлению кислотный / щелочной травящий раствор -
Удаление резистной пленки 5% NaOH, 50+5oC, 60-120 сек -

Примечание:
1) Перед использованием смесь необходимо перемешать до однородности.
2) Материал можно использовать без растворителя. При необходимости, используется специальный растворитель.


Возврат на предыдущую страницу

Наверх

© Диахром, 2001