Фототехническая пленка Huaguang GLR-II
Фототехническая пленка Huaguang GLR-II используется для изготовления фотошаблонов при производстве печатных плат.
УФ-чувствительная негативная пленка для контактных работ.
Фотопленка имеет хорошую безусадочность, среднюю чувствительность, большую адаптивность к различным проявителям,
а также хорошую воспроизводимость линий и отличные высокотемпературные характеристики для проявочного процесса Рапид Аксесс (RA).
Предназначена для изготовления рабочих копий фотошаблонов для печатных плат, так же для картографических и репрографических приложений.
Толщина полиэстеровой основы: 0.10 мм (0.004').
Пленка может быть распакована при дневном свете или безопасном желтом свете.
Фотопленка может обрабатываться фотохимией, подходящая под процесс Rapid Access (Рапид Аксесс), например химия HG 2000/681/881.
Основные характеристики:
- прозрачная антистатическая полиэстерная основа, толщиной 0.10 мм
- высокая плотность изображения
- высокая контрастность
- низкая вуаль
- высокое разрешение
- хорошая воспроизводимость линий высокой четкости
- отличная размерная стабильность основы
- проявочный процесс RA (Рапид Аксесс ) при высокой температуре
Спектральная чувствительность:
Работа с пленкой и безопасное освещение:
Упаковку с фотопленкой можно открывать при дневном свете или безопасном желтом свете, в то же время избегая попадания на нее
прямых солнечных лучей.
Неиспользуемую после распаковки пленку следует убрать в тот же самый оригинальный упаковочный материал.
С фотопленкой следует обращаться с осторожностью, избегать трения, складывания, избегать попадания
на нее масла,
отпечатков пальцев а также избегать других факторов, могущих нанести вред фотопленке.
Хранение:
Храните пленку в сухом прохладном месте.
Температура хранения должна быть не выше 200C, относительная влажность воздуха - не более 65%.
Более высокая температура хранения будет сокращать срок годности фотопленки, также увеличивается усадка пленки и т. д.
Избегайте хранения пленки в одной комнате вместе с радиоактивными и другими опасными веществами.
Срок хранения: 24 месяца
Стандарт: HG / T2172-2003
Химия и пленка для очистки проявочных машин
Возврат на предыдущую страницу
Наверх
