Фототехническая пленка Agfa Idealine RPF
(Red Phototooling Film)

Фототехническая пленка нового поколения
Agfa Idealine RPF Film предназначена
для изготовления прозрачных фотошаблонов
на фотоплоттерах c гелий-неоновым лазером
(633 нм) или красным лазерным диодом (650-670 нм)
Создана для удовлетворения различных требований при производстве печатных плат, направленных на минимизацию электронных узлов, т.е. на уменьшение ширины проводника и пространства, а также увеличения количества слоев при производстве печатных плат, для выполнения высококачественных работ в радиотехнической промышленности, картографии и химической индустрии.

Описание
Agfa Idealine RPF - панхроматическая высококонтрастная пленка на толстой полиэтилентерефталатной основе 178 мкм с отличным качеством результатов и гарантированной четкостью линий.
Пленка разработана на основе галоидов серебра с использованием последней технологии.
Фотопленка имеет защитный слой, предохраняющий от повреждения поверхность фотошаблона.
Это позволяет многократно использовать фотошаблон при копировании.
Матированный слой со стороны основы обеспечивает быстрое вакуумное транспортное протягивание пленки через фотоплоттер.
Упаковка изготовлена с учетом требований "чистой комнаты".

Применение и область использования
Изготовление фотошаблонов при производстве печатных плат на фотоплоттерах следующих производителей:
First EIE RP ( серии 200, 300, 500, 700, 800, 1600)
Barco (BG 7300, Crescent Series, Silver Writer-800, Large Area Plotters)
Escher-Grad (Eguinox)
Lavinir (Pulsar 8000 SE, Pulsar K)
Orbotech (LP 7008, LP 9008)
Glaser (Galaxy 3000-4000, Conet 6000AF)
и другие.

Характеристики
* Высокая плотность изображения даже для самых мелких деталей изображения.
* Высокий контраст.
* Полиэфирная основа толщиной 0.18 мм с высокой поверхностной стабильностью.
* Температурный коэффицент линейного расширения: 0.0018% - обработанной, 0.0018% - необработанной.
* Коэффицент влажности при линейном расширении на 1% RH: 0.0011% - обработанной, 0.0012% - необработанной.
* Диапазон изменения размеров при обработке, зависит от условий сушки. Температура сушки: 35⁰C.
* Качество эмульсии и контроль ширины линии.
* Превосходная резкость и прямой край линии.
* Антистатический слой обеспечивает отсутствие пыли на поверхности пленки.
* Специальный эмульсионный слой предохраняет материал от образования колец Ньютона.
* Четкость кромки линии на шаблоне обеспечивает оптимальный перенос изображения на фоторезист.
* Упаковка изготовлена с учетом требований чистой комнаты.
* Высокая стабильность и низкое потребление химии.
* Высокая плотность изображения даже для самых мелких деталей изображения и широта экспозиции.
* Очень хорошая размерная стабильность.
* Высокая устойчивость к истиранию.
* Оптимальное транспортное и вакуумное поведение пленки.
* Dmax не менее 5,5.
* Коэффициент контрастности не менее 8,0.

Экспонирование
Величина экспозиции определяется экспериментально для каждого фотоплоттера.

Освещение в темной комнате
Светофильтр EncapSullite T 20/ND.75 на расстоянии не менее 1,2 м от пленки.

Обработка
Машинная обработка: все типы проявочных процессоров RA (Rapid Access)
Проявители: Pdev, Vdev, D-IM
Время проявления: 30-35 сек.
Температура проявления: 32-35⁰C.
Регенерация проявителя: 50% почернение - 250 мл/м.кв., на окисление - 2 л/сутки.
Фиксаж: PFix, G333c
Температура фиксирования: 35^oС
Регенерация фиксажа (50% почернение): освежитель без электролиза - 500 мл/м.кв., с электролизом - 125 мл/м.кв.
Промывка: для оптимальной размерности при 20^oС

Рекомендации для размерной стабильности пленки
1. Фотопленка должна быть выдержана от 4 до 7 часов в условиях рабочего помещения, т.е. рядом с фотоплоттером.
2. Поддерживать постоянную температуру (+1^oС) и относительную влажность воздуха во всех помещениях, где используется пленка.
3. Стандартизировать температуру сушки фотопленки в проявочной машине в зависимости от влажности помещения. Более точная температура сушки должна быть установлена опытным путем.
4. Определить время адаптации фотопленки после ее обработки в проявочной машине, измеряя через 5 минутные интервалы размер между базовыми точками.

Создание условий в рабочих помещениях
1. Периодически убирать помещение с помощью пылесоса и делать влажную уборку.
2. Любые поверхности для работы с пленкой должны быть проверены на отсутствие заусенцев.
3. Дверь в помещение должна быть плотно закрыта.
4. Светофильтр для неактиничного освещения должен быть установлен в соответствии с инструкцией.

Условия работы с фотопленкой
Поверхность пленки должна полностью контактировать с воздухом для идеальной адаптации ее к климатическим условиям чистой комнаты. Отдельные листы поместить рядом с фотоплоттером.

Хранение пленки
Экспонированную или обработанную пленку хранить в сухом и прохладном месте при температуре воздуха 21^oС и относительной влажности воздуха 50 %. Пленку рекомендуется обрабатывать как можно скорее после экспонирования.

Кривая спектральной чувствительности

























Характеристические кривые


































Технические характеристики и процесс обработки


Возврат на предыдущую страницу

Наверх