Экспонирующее устройство UVE-M500
Установка C SUN UVE-M500 предназначена для экспонирования фоторезиста и паяльной маски при производстве одно- и двухсторонних
печатных плат.
В установке используются две рамы. Пока одна рама экспонируется,
во вторую раму укладывается заготовка.
Основные характеристики
- максимальный размер заготовок и область экспонирования: 610х740 мм
- толщина заготовок: 0 - 3.2 мм
..(при необходимости, можно экспонировать заготовки толщиной до 6 мм,
но после работы
.. с толстыми заготовками, возможно,
придётся заменять майларовую плёнку на верхней
.. раме экспонирования)
- мощность ламп: 5 КВт
- интенсивность: 30 мВт/см2 при длине волны 365 нм
- количество ламп: 2 ртутные лампы
- однородность экспонирования: 80%
- в раме: сверху - майларовая пленка, снизу - стекло, вакуумный прижим
- автоматические электромагнитные замки рам
- сообщения об ошибках и проблемах на ЖКИ мониторе
- интерфейс пользователя: сенсорный ЖКИ монитор
- встроенные измерители интенсивности излучения
- независимые установки для верхней и нижней рамы
- до 4 наборов предустановок параметров экспонирования
- условия эксплуатации: чистое помещение, 22o+3o; относительная влажность 55%
- электропитание: 380 В, 50 Гц, 3 фазы, 15 КВА
- охлаждение ламп: непосредственное водяное, 25oC, 30 л/мин
- емкость бака дистилированной воды: 60 л
- подвод воды: труба 3/4"
- габариты: 1340x2100x1800 мм
- вес: 800 кг
Установка, сервисное обслуживание и техническая поддержка обеспечиваются высококвалифицированными специалистами нашей компании
и завода-изготовителя.
Возврат на предыдущую страницу
Наверх
