Экспонирующее устройство UVE-M525
Установка C SUN UVE-M525 с системой выравнивания фотошаблона вручную по 2 реперным знакам с контролем качества выравнивания
на встроенном видеомониторе предназначена для двухстороннего экспонирования жидкого фоторезиста при изготовлении
внутренних слоёв печатных плат.
Основные характеристики
- размеры заготовки: от 254х305 мм до 558х660 мм
- толщина заготовки: 0.1 - 2.0 мм
- размеры фотошаблона: 711 х 610 мм
- источник света: 2х8 КВт, металлогалогеновые лампы
- равномернрсть: 80%
- интенсивность излучения: 60 мВт/см2 при длине волны 365 нм
- метод охлаждения: косвенное водяное охлаждение
- разрешение зазор/дорожка: 0.09 мм / 0.09 мм
- выравнивание: по двум реперным точкам
- диапазон перемещения по X: +35 мм; по Y: +35 мм
- повторяемость: +15 мкм
- двустороннее экспонирование
- автоматическое управление временем экспонирования
- две рамы "стекло-стекло"
- встроенный измеритель интенсивности излучения
- управление установкой от программируемого логического контроллера с сенсорным экраном
- выравнивание производится вручную по двум реперным знакам с помощью встроенной видеосистемы
- вакуумная фиксация фотошаблонов
- электроэнергия: 380 В, 50 Гц, 3 фазы, 18 КВА
- сжатый воздух: 5 атм, 40-80 л/мин
- подвод воды: 1-1/4"
- слив воды: 3/4"
- охладитель: при 7-11oC - 40-80 л/мин
- условия эксплуатации: чистая комната не хуже "класс 5000", с температурой 22o+3o и относительной
. .влажностью 55%+5%
- габариты установки, Д х Ш х В: 3250 x 1500 x 1800 мм
Установка, сервисное обслуживание и техническая поддержка обеспечиваются высококвалифицированными специалистами нашей компании
и завода-изготовителя.
Возврат на предыдущую страницу
Наверх
