оборудование и расходные материалы для различных отраслей промышленностиДИАХРОМ
О компанииНовости и событияПродукцияЗаказАкции и спецпредложенияПартнерыКонтакты

Растворы для снятия фоторезиста и защитной паяльной маски



RISTOFF C-8 Применение:
Паяльная маска
Низкая температура : 50°C
Щелочной процесс
Двойная концентрация
Не требуется дополнительной очистки, полоскания
Успешная работа со всеми типами паяльных масок
RISTOFF C-53 Применение:
Фоторезист
Стандартное
Внутренние и внешние слои
Покрытие никель/золото
Щелочное и кислое травление
RISTOFF C-71 Применение:
Фоторезист
Базовый состав : MEA (Моноэтаноламин)
Внешние слои
Кислое травление

Презентация растворов для снятия фоторезиста, защитной паяльной маски, гальванорезистов и др.




Возврат на предыдущую страницу

Наверх

© Диахром, 2001