оборудование и расходные материалы для различных отраслей промышленностиДИАХРОМ
О компанииНовости и событияПродукцияЗаказАкции и спецпредложенияПартнерыКонтакты

Фоторезист DuPont Riston



Сухой пленочный, негативный фоторезист специально разработан для нанесения рисунка схемы на химически осажденную скрубированную или не скрубированную медь, а также на большинство поверхностей для прямой металлизации.
Пригоден для покрытия из никеля и золота.
Обладает хорошей кроющей способностью к перекрытию больших отверстий и пазов.
Хорошо работает с кислыми и щелочными травильными растворами.

Вся продукция с маркой Riston выпускается с жестким контролем условий производства и технологии. Производство фоторезиста фирмы DuPont сертифицировано в соответствии с ISO 9002 и дополнительного сертификата на эту продукцию не требуется.

Серия Описание Назначение Тип Толщина
Riston T 200 Универсальный фоторезист для всех применений Кислое и щелочное травление. Металлизация (Cu, Sn, SnPb). T 215
T 220
38 мкм
50 мкм
Riston ES-100 Etch Master Высокопроизводительный для быстрого экспонирования, проявления и снятия. Тонкая линия исполнения внутренних слоев многослойных печатных плат. Кислое травление. ES-102 30 мкм
Riston PM 200 Plate Master Высокая стойкость в гальванических процессах, отличный тентинг, универсальное применение, высокая производительность. Для наружных слоев. Кислое травление.
Металлизация (Cu, Sn, SnPb).
PM 240
PM 250
PM 275
38 мкм
50 мкм
75 мкм
Riston MM500 Multi Master Универсальный, стойкий к высокому PH, щелочному травлению и агрессивному золотому покрытию. ММ 500 Надежная серия. MM530
MM540
MM550
30 мкм
38 мкм
50 мкм
Riston LDI Очень высокая производительность для получения прямого лазерного изображения Кислое и щелочное травление. Металлизация (Cu, Ni/Au). LD7030
LD7040
LD7250
30 мкм
38 мкм
50 мкм
Riston FX 900 Высокие технологии. Тонкая линия, отличная скорость ламинирования. Кислое и щелочное травление.
Металлизация (Cu, SnPb).
FX 920
FX 930
FX 940
FX 950
20 мкм
30 мкм
40 мкм
50 мкм
Riston FX 250 (спец.) Для селективной металлизации Ni/Au ENIG (химическое иммерсионное золочение по подслою никеля). Устойчивость к селективному химическому Ni/Au FX 250 50 мкм


Тип Краткое описание Толщина Размеры
Riston Т 215 Универсальный фоторезист кислого и щелочного травления для нанесения рисунка схемы и прямой металлизации 38 мкм 304/600мм х 152м
Riston Т 220 --"-- 50 мкм --"--
Riston PM 240 Высококачественный фоторезист для внутренних слоев, кислого травления в технологии тентинга и для технологии тонких проводников. 40 мкм --"--
Riston PM 250 --"-- 50 мкм --"--
Riston PM 275 --"-- 75 мкм 304/602мм х 152/100м
Riston PM 299 --"-- 100 мкм 604мм х 76.3м
Riston MM 140 Универсальный фоторезист кислого и щелочного травления для внешних и внутренних слоев. 38 мкм 304/600мм х 152м
Riston MM 150 --"-- 50 мкм --"--
Riston ММ 530 Универсальный фоторезист для щелочного травления с высоким значением PH.
Золотое покрытие.
30 мкм --"--
Riston ММ 540 --"-- 38 мкм --"--
Riston ММ 550 --"-- 50 мкм --"--
Riston LDI 7030 Прямое лазерное экспонирование. 30 мкм --"--
Riston LDI 7040 --"-- 40 мкм --"--
Riston LDI 7050 --"-- 50 мкм --"--
Riston FX 930 Для точных работ. Тонкая линия. Отличное ламинирование, химическое никелирование и золочение. 30 мкм 304/600мм х 152м
d 6"
Riston FX 940 --"-- 40 мкм 304/600мм х 152м
Riston FX 250 Для технологии с переносом второго изображения, химического и гальванического никелирования и золочения. 50 мкм --"--
Riston ES 102 Для кислого травления. 30 мкм --"--
Vacrel 8130 Сухая пленочная паяльная маска. 75 мкм 304/600мм х 121м
Foamfree Пеногаситель. канистра 25 л
Fuji Yellow
No. FV 30
Светофильтр неактиничного освещения. Зона пропускания более 520нм 18W 60см /
30W 90см /
36W 120см

Условия хранения
Фотополимерная пленка Riston и фотополимерная защитная паяльная маска Vacrel имеют сложную структуру и предназначены для полимеризации и отверждения при УФ излучении.
Все эти фотополимерные материалы Riston и Vacrel чувствительны к нагреву и влажности воздуха. Поэтому для получения стабильных результатов требуется осторожность.
Пленку следует хранить в нераскрытой оригинальной упаковке на стеллажах в вентилируемом помещении при условиях:
Температура (T): 5-21oC
Относительная влажность (RH): 30-70 %

Стеллажи должны находиться на расстоянии не менее метра от отопительных приборов и не менее 0,1 метра от пола. В помещение, где хранится фотоматериал, не должны проникать вредные газы, сероводород, ацетилен, аммиак, окислы азота, пары ртути и т.п.

Срок хранения за пределами этих условий, особенно при более высокой температуре и влажности, может ускорить 'старение' материала.
Отрицательные эффекты влияют на адгезию, фоточувствительный слой, неполное проявление пленок, слипание края и сдвиг.
Если условия хранения не соответствовали рекомендованным условиям, этот фотоматериал все же может быть использован. Перед использованием при изготовлении продукции фотоматериал должен быть проверен на изменение физических параметров путем практических испытаний.
Если температура и влажность превысили рекомендуемые условия хранения, то проверьте материал на слипание края или изменение цвета.
Если же температура была ниже рекомендуемой, то необходимо проверить на фоточувствительность (не резкость фильма), возможно произошла кристаллизация.
Потеря светочувствительности зависит от времени и начинается с момента вскрытия оригинальной упаковки.

Срок годности при соблюдении этих условий составляет для:
Riston - 12 месяцев и
Vacrel - 24 месяца.

Дата изготовления материалы указана на коробке.
Нужно отметить, что 12 месяцев - это номинальный срок и при соблюдении условий хранения можно использовать фотоматериал и после этого срока.

Перед использование фотоматериал должен пройти акклиматизацию на производственном участке при температуре 21+3oС и относительной влажности 50+10%.


Назначение сухого пленочного фоторезиста Riston
Свойства и процесс обработки Riston (Таблица 1)
Свойства и процесс обработки Riston (Таблица 2)
Условия хранения Riston и Vacrel
Презентация: прямое изображение на LDI Riston


Возврат на предыдущую страницу

Наверх

© Диахром, 2001