оборудование и расходные материалы для различных отраслей промышленностиДИАХРОМ
О компанииНовости и событияПродукцияЗаказАкции и спецпредложенияПартнерыКонтакты

Радиографическая техническая пленка Fujifilm



Компания Fujifilm разработала революционную новую технологию создания рентгеновской пленки. Сочетание новейших достижений в области изготовления эмульсии и компьютеризированного производственного процесса гарантирует стабильность и эффективность каждой партии, оптимальное качество изображения, совместимость с химикатами NDT и актуальными условиями обработки в ручном и автоматическом режиме.
Пленки Fujifilm IX сочетают в себе уникальные характеристики чувствительности и зернистости и могут использоваться в самых разных областях при стабильно высоком качестве вне зависимости от исследуемого материала и источника излучения.
Каждый тип пленки сертифицирован на соответствие стандартам: ASTM E1815-96, ISO 11699-1 и JIS K7627.


Преимущества пленки Fujifilm IX:

- Высокое качество изображения
Благодаря мелкому зерну пленки Fujifilm IX значительно упрощают поиск дефектов.
- Стабильность параметров пленки
Отличие параметров пленки от партии к партии является минимальным. По стабильности качества пленки Fujifilm являются лучшими в отрасли. Соответсвенно, характеристики экспозиции при съемке различных деталей не меняются, и эффективность процесса повышается.
- Высокая однородность оптической плотности
Равномерное формирование слоя эмульсии обеспечивает отсутствие неоднородности оптической плотности, которая иногда появляется при автоматической обработке пленок.


Типы пленок:

Fujifilm IX25
Специальная пленка, соответствующая стандарту ASTM с самым мелким зерном и максимальной резкостью и разрешением.
Подходит для исследования новых материалов, например, углепластиков, керамических изделий и микроэлектронных деталей.
IX25 обычно используется с прямым экспонированием или со свинцовыми экранами.
IX25 рекомендуется обрабатывать только автоматически.

Fujifilm IX50
Пленка ASTM класса 1 с исключительно мелким зерном и высокой контрастностью, исключительной резкостью и разрешением.
Подходит для исследования любых материалов с низким атомным числом, где необходимо получить очень детальное изображение.
Благодаря исключительно мелкому зерну используется при исследовании слабоконтрастных объектов при экспонировании мощным рентгеновским или гамма-излучением.
Предназначена для применения с высоковольтными рентгеновскими генераторами или изотопами с высокой активностью.
Продемонстрирован широкий диапазон экспозиции в областях с высокой контрастностью объекта.
Пленка IX50 обычно используется с прямым экспонированием или со свинцовыми экранами.

Fujifilm IX80
Пленка ASTM класса 1 с исключительно мелким зерном и высокой контрастностью, исключительной резкостью и разрешением используется для обнаружения мелких дефектов.
Пленка предназначена для исследования любых материалов с низким атомным числом с помощью рентгеновского облучения, а также для исследования материалов с более высоким атомным числом с помощью высоковольтного рентгеновского облучения или гамма-излучения.
Пленка демонстрирует широкий диапазон экспозиции в областях с высокой контрастностью объекта.
Пленка IX80 обычно используется с прямым экспонированием или со свинцовыми экранами.

Fujifilm IX100
Пленка с очень мелким зерном и высокой контрастностью ASTM класса II предназначена для исследования легких металлов с помощью слабоактивных источников излучения и для исследования толстых, плотных образцов с помощью высоковольтного рентгеновского излучения и высокоактивного гамма-излучения.
Пленка демонстрирует широкий диапазон экспозиции в областях с высокой контрастностью объекта.
Хотя пленку IX100 обычно используют при прямом экспонировании или со свинцовыми экранами, она пригодна для работы и с флуоресцентными или флуорометаллическими экранами.

Fujifilm IX150
Высокочувствительная пленка с мелким зерном и высокой контрастностью ASTM класса III предназначена для исследования самых разных образцов с помощью источников рентгеновского и гамма-излучения с низким и высоким напряжением.
Она особенно полезна в том случае, если высокоактивный источник гамма-излучения недоступен, или при проверке очень толстых образцов.
Пленка IX150 используется при прямом экспонировании или со свинцовыми экранами.




Возврат на предыдущую страницу

Наверх

© Диахром, 2001