оборудование и расходные материалы для различных отраслей промышленностиДИАХРОМ
О компанииНовости и событияПродукцияЗаказАкции и спецпредложенияПартнерыКонтакты

Установка EDI 300 Dual Direct Imager
(для прямого экспонирования фоторезиста и защитной паяльной маски)


Установка EDI 300 Dual Direct Imager относится к классу промышленных устройств, предназначенных для экспонирования заготовок печатных плат напрямую по фоторезисту и паяльной маске, а также для изготовления фотошаблонов печатных плат на фото- и диазопленках, чувствительных в диапазоне (365-450 нм).
Экспонирующая оптическая головка обеспечивает
полный непрерывный световой УФ-спектр в данном диапазоне, что является более эффективным экспонированием по сравнению с другими источниками, например со светодиодами (UV-LED), которые имеют узкий световой спектр. Особенно этот эффект проявляется при экспонировании фоточувствительных паяльных масок и фотопленок.

Минимальная ширина получаемых линий - 20 мкм !

Конструкция имеет уникальный инновационный дизайн, обеспечивающий высокую стабильность и точность позиционирования перемещаемой по X/Y/Z-осям экспонирующей головки. Установка компактна, имеет небольшой вес, занимает небольшую площадь, имеет низкое потребление энергии и легкий доступ для оператора при замене лампы.

Эта новая серия устройств прямого экспонирования разработана на основе знаний и опыта компании First EIE SA в области технологий обработки изображений (включая фотоплоттеры и струйные принтеры для нанесения маркировки).

Устройство EDI 300 Dual использует передовые технологии, полученные из многолетнего опыта работы компании First EIE SA с процессом прямого экспонирования фоторезиста. Используя апробированный временем, разработанный компанией собственный модуль ультрафиолетового света, точную систему регистрации и точную обработку данных, эта новая модель, которая интегрирует новейшие аппаратные и программные технологии и предлагает инновационную многорежимную концепцию с точки зрения работы с заготовками от ручной -
к полноавтоматической их загрузке и разгрузке.

Оптическая головка представляет собой специальный проекционный модуль, включающий в себя быстродействующую DMD-матрицу, объектив высокого разрешения, встроенную автоматическую систему терморегуляции. В состав установки также входит высокоразрешающая HD CCD-видеокамера для автоматической регистрации меток и измерения расстояний между метками по двум осям координат (X/Y).

Разработанная фирмой First EIE SA новая серия устройств прямого экспонирования фоторезиста интегрирует уже проверенную временем оптическую головку DMD, которая основана на чипе TI's DLP с активным тепловым управлением (для улучшения срока службы DMD). Специально разработанная оптическая линза оптимизирована для обеспечения высочайшей точности изображения.

Сразу две заготовки на линии форматом до 740мм х 650 мм !

Устройство прямого экспонирования фоторезиста EDI 300 Dual способно адаптироваться к различным технологическим направлениям при производстве печатных плат, благодаря используемым в устройстве нижеследующих новейших разработок:
- наличие новой системы освещения, способной улавливать цели на различных субстратах (финишированных, отполированных или химически очищенных)
- наличие стола с вакуумным автоматическим прижимом, способным идеально ровно удерживать заготовку
- совместимость с различными входными форматами данных
- наличие двух источников экспонирования в линии
- наличие встроенной системы переворачивания заготовки
- наличие различных мультирежимов работы
- наличие полностью автоматической загрузки и выгрузки заготовок.


Инновационный дизайн
- Гранитная база с линейными моторами для стабильности и точности при высокой скорости экспонирования.
- Система реального вращения осей для компенсации смещения изображения на панели.
- Реверсивный механический захватывающий стол с вакуумом.
- Автофокус в реальном времени с системой двойных отслеживающих лазеров улучшает оптическое позиционирование для получения еще более высокой точности ширины линии при двухнаправленном экспонировании.


Источник УФ-излучения высокой мощности
- Широкий УФ-спектр от 365 до 450 нм делает это устройство совместимым со всеми производственными стандартами.
- Стало возможным экспонирование разнообразных фотоматериалов - от травильных резистов до паяльных масок и маркировочных красок.
'Я очень доволен этим оборудованием. Теперь я уверен, что оптический модуль с широким спектром длин волн имеет множество преимуществ для моего процесса экспозиции с сухими пленками, в частности, с защитной паяльной маской. Я увидел значительную разницу в качестве и скорости получаемого прямого изображения также и при использовании обычной маски, экспонируемой с помощью устройства прямого экспонирования First EIE SA, благодаря широкому УФ-спектру. Время прямого экспонирования маски совершенно впечатляет...' - Отзыв клиента


Универсальность
Устройство прямого экспонирования EDI 300 Dual способно адаптироваться или быть адаптированным
ко множеству различных приложений.


Все это, благодаря:
- новой система освещения, способной улавливать цели на различных
..субстратах: финишированных, шлифованных, отполированных или
..химически очищеных
(в качестве опции доступна также специальная
..система для обнаружения цели, покрытой паяльной маской
);
- столу с вакуумным и автоматическим зажимом, способному ровно
.. удерживать заготовку;
- совместимости с различными форматами данных;
- автоматической регистрации сторон A/B и масштабированию
..с использованием технологии распознавания изображений
..с помощью CCD-камеры высокого разрешения;

Бумаги с защитными голограммами ................................PCB-HDI ........................................Химическое машиностроение











Составная цель
Наличие способности выравнивать одно изображение
по нескольким наборам рисунков ('узоров') отверстий, которые были просверлены в разное время
с потенциально различным масштабированием
и разными началами координат.


Опция локального масштабирования
Исходные данные ..................................Экспонирование с локальным масштабированием














Программные решения
Программное обеспечение EDI300Dual MPS предлагает удобный для оператора интерфейс с превосходной гибкостью, основанный на Win10 - LTSC - 64 битах, он привносит в систему обширный опыт First EIE в области управления файлами и обработки данных.
Пакет панелей: от CAM до готовой панели - в два клика.



Поддерживаемые форматы данных с прямым вводом и преобразованием в формат First EYE VID






Новый программный дизайн
С новыми программными инструментами Ethercat и Ethercat Safety Technology устройство EDI 300 Dual предлагает современную и эволюционную архитектуру для точного и стабильного управления движением.
Современные инструменты для разработки и диагностики для длительного срока службы. Время простоя и устранения неполадок сведено к минимуму.


Авто диагностика. Диагностическое обслуживание.
Устройство EDI 300 Dual выполняет автоматическую калибровку, в том числе для обеспечения уровня энергии и точности геометрии.
Устройство EDI 300 Dual является CFX (Connected Factory Exchange) IPC-2591 совместимым и может быть настроено под специальные требования клиентов.
Это обеспечивает эффективные инструменты для обеспечения непрерывности технологических процессов и профилактического обслуживания.


Автоматизация.
- два модуля экспонирования в линии.
- встроенная система переворачивания.
- мультирежимность.
- постоянная готовность для полной загрузки и разгрузки.




















ОСНОВНЫЕ ХАРАКТЕРИСТИКИ:

Параметры заготовок (сразу две заготовки одновременно на линии):
Максимальный размер изображения ( х 2): 690 мм x 590 мм (на каждой заготовке)
Максимальный размер заготовки ( х 2): 740 мм x 650 мм (каждая заготовка)
Минимальный размер заготовки ( х 2) с автоматизацией: 250 мм x 150 мм (каждая заготовка)
Толщина заготовок: от 0.1 мм до 10 мм
Фиксация заготовок: 1) вакуумный стол от First EIE ; 2) cистема зажимов от First EIE

Оптический модуль:
Тип: высокоточные оптические головки высокого разрешения
Технология: DMD-матрица с улучшенными специальными UV-линзами
Тип светового источника: ртутная дуговая лампа сверхвысокого давления
Световой спектр: широкий и полный УФ спектр от 365 до 450 нм (UV-A)
Энергия экспонирования: от 4 до 3000 мДж/см2
Система терморегуляции: встроенная
Позиционирование оптичеcких головок: с помощью высокоточной линейной стеклянной шкалы

Материалы для экспонирования:
Травильные фоторезисты
Защитные паяльные маски
Фототверждаемые маркировочные краски
УФ-чувствительные серебросодержащие фотопленки
Диазопленки

Режимы экспонирования:
Легко выбираются простым нажатием кнопки

Встроенный РИП:
Форматы входных данных: Gerber RS274D, RS274X, DPF, VID, EIE RPL
Опционные форматы входных данных: ODB++, PostScript, TIFF-Packbits, PDF, AI (Adobe Illustrator), DWG и др.
Сеть: TCP-IP

Пользовательский интерфейс:
Дружественный пользовательский интерфейс с сенсорной панелью
Программное обеспечение Remote Queue Manager и программа Wizards позволяют быстро и легко выполнить настройку или калибровку

Калибровка:
Автоматическая диагностика и калибровка

Выравнивание и регистрация панели (заготовки):
Автоматическая регистрация и выравнивание заготовки по краям с помощью встроенной CCD камеры
или вручную, с помощью направляющих штифтов
Локальное масштабирование
Система реального вращения осей для компенсации смещения изображения на панели
Позицию заготовки задает поворотный энкодер
Разрешение системы позиционирования: 0.1 мкм
Точность системы позиционирования заготовки: менее 1 мкм

Геометрическая точность:
+ 2 мкм

Минимальная ширина линии:
20 мкм

Повторяемость:
+ 0.5 мкм

Условия для рабочей комнаты:
Температура и относительная влажность: 20 + 2oC и 50% + 10% (без конденсата)
Требования по электропитанию: одна фаза: 85 - 265 VAC / 47-63 Гц, 2000 W
Потребляемая мощность: 280 Вт (в режиме готовности), 800 Вт (экпонирование)
Освещение в рабочем помещении: в зависимости от типа фотоматериала (обычно - желтое)
Сжатый воздух: сухой и свободный от масел
Потребление сжатого воздуха: 56 л/мин (90 psi, 2 cfm)
Давление сжатого воздуха: минимум 6 бар

Размеры и вес:
Ширина x Глубина x Высота: 1700 мм x 2700 мм x 1450 мм
Вес: 2400 кг

Опционное ПО:
Наличие программного обеспечения CAM Software для автоматизации данных в EDI300 Dual для минимального воздействия оператора

Сериализация динамических данных (опция):
Динамическое нанесение на заготовку серийных данных: серийные номера, тайм-коды, штрих-коды 1D или 2D (QR-код, DataMatrix и др.) при помощи карты нанесения D-code или с помощью программы First EIE Serimark 2 Optional

Документация:
Инструкция по эксплуатации на русском языке
Иинструкция оператора на русском языке

Проверка оборудования перед отгрузкой:
Установка проходит полную проверку работоспособности перед отгрузкой фирмой-изготовителем



Установка, сервисное обслуживание и техническая поддержка обеспечиваются высококвалифицированными специалистами нашей компании и завода-изготовителя.


Возврат на предыдущую страницу

Наверх

© Диахром, 2001