Установка First EDI 700 Long Direct Imager
(для прямого экспонирования фоторезиста и защитной паяльной маски)
Установка EDI 700 Long Direct Imager относится к классу промышленных устройств, предназначенных для экспонирования заготовок
печатных плат напрямую
по фоторезисту и паяльной маске, а также для изготовления фотошаблонов печатных плат на фото- и диазопленках,
чувствительных в диапазоне (365 - 450 нм).
Экспонирующая оптическая головка обеспечивает
полный непрерывный световой УФ-спектр в данном диапазоне, что является
более
эффективным экспонированием по сравнению с другими источниками, например, со светодиодами (UV-LED), которые имеют узкий световой
спектр. Особенно этот эффект проявляется при экспонировании фоточувствительных паяльных масок
и фотопленок.
Минимальная ширина получаемых линий может достигать 30 мкм !
Конструкция имеет уникальный инновационный дизайн, обеспечивающий высокую стабильность и точность позиционирования
перемещаемой по X/Y/Z-осям экспонирующей головки. Установка компактна, имеет небольшой вес, занимает небольшую площадь, имеет
низкое потребление энергии и легкий доступ для оператора при замене лампы.
Установка оснащена двумя оптическими головками фирмы First EIE SA, которые могут одновременно экспонировать обе стороны
заготовки, поэтому отпадает необходимость переворачивать заготовку
для экспонирования второй стороны.
Оптическая головка
представляет собой специальный проекционный модуль, включающий в себя быстродействующую DMD-матрицу
формата FULL HD (1080p 0.95' DMD TI-DLP), объектив высокого разрешения, встроенную автоматическую систему терморегуляции.
В состав установки также входит высокоразрешающая HD CCD-видеокамера для автоматической регистрации меток и измерения
расстояний между метками по двум осям координат (X/Y).
Уникальный стол на воздушной подушке позволяет в несколько раз снизить вес установки (более, чем в 6 раз по сравнению
с установками прямого экспонирования от других производителей).
Установка компактна, занимает небольшую площадь, имеет небольшой вес (1400 кг), низкое потребление энергии, а также легкий
доступ при замене лампы.
Установка легко транспортируется и устанавливается.
В комплект поставки входят рабочее место оператора со специальным программным обеспечением
для подготовки заданий и
управления установкой.
ОСНОВНЫЕ ПРЕИМУЩЕСТВА
Наилучшее решение
Это - наилучшее решение для изготовления крупногабаритных плат, антенн, волноводов и т. п. размером
до 6 метров в длину и более.
Может экспонировать большой спектр различных фоторезистов, паяльных масок, фото- и диазопленок
с чувствительностью от 4 до 1000 мДж/см2.
Растеризация в реальном времени
Система обрабатывает изображение в реальном времени, что позволяет
производить его динамическую адаптацию к масштабу (при необходимости) каждой партии печатных плат с двухсторонним
нанесением рисунка.
Широкий спектр экспонирования
Источник экспонирования обладает полным непрерывным УФ спектром от 365 нм до 450 нм,
что позволяет экспонировать очень большое разнообразие фоторезистов, защитных паяльных масок, фотопленок и диазопленок.
Возможность концентрации большой величины энергии экспонирования на единицу площади позволяет экспонировать самые
различные фотоматериалы с гораздо большей проработкой деталей и скоростью.
Встроенная система очистки
Установка имеет встроенную систему фильтрации подаваемого сжатого воздуха,
который локально очищает поверхность фотоматериала во время его экспонирования, что снижает требования к чистоте
рабочего помещения в целом.
Низкое энергопотребление
У системы очень низкие требования по энергопотреблению: в режиме простоя - 280 Вт, в режиме
экспонирования - 800 Вт.
Компактная оптическая система
Компактность специально разработанной проекционной оптической системы и ее системы
охлаждения способствует минимизации термических эффектов, возникающих при нагревании лампы и оптических компонентов
в корпусе оптической головки.
Автоматическая фокусировка
Расстояние до рабочей поверхности фоторезиста может автоматически измеряться
и отслеживаться в процессе прорисовки с помощью встроенной системы автофокусировки.
Уникальный стол на воздушной подушке
Система использует уникальную разработку на основе новейших технологий -
стол на воздушной подушке.
Это позволяет в почти в 6 раз снизить вес установки
по сравнению с аналогичными устройствами
прямого экспонирования от других производителей.
ТЕХНИЧЕСКИЕ ХАРАКТЕРИСТИКИ
Максимальный размер заготовки: 610 мм x 5000 мм (и более - по заказу)
Рабочая зона: 610 мм х 5000 мм (и более - по заказу)
Толщина заготовки: 0,1 мм - 11 мм
Метод крепления заготовок: вакуум
Материалы для экспонирования:
- фоторезисты (большинство используемых в отрасли)
- защитные маски (большинство используемых в отрасли)
- УФ-чувствительные фотопленки (большинство используемых в отрасли)
- диазопленки (большинство используемых в отрасли)
Две высокоточных оптических головки высокого разрешения:
- имеют встроенную систему терморегуляции
- технология DMD SXGA 0.95" с улучшенными специальными UV-линзами
- тип светового источника: ртутная дуговая лампа сверхвысокого давления
- световой спектр: 365 - 450 нм (UV-A)
- энергия экспонирования: от 4 до 1000 мДж/см2
Позицию головок задает высокоточная линейная стеклянная шкала
Позицию заготовок задает поворотный энкодер
Автоматическая регистрация заготовки и ее выравнивание по краям:
- с помощью встроенной CCD-камеры или вручную, с помощью направляющих штифтов
Выравнивание сторон А и В для двух головок
Разрешение системы позиционирования: 0,1 мкм
Точность системы позиционирования заготовки: менее 1 мкм
Точность совмещения сторон: 10 мкм
Суммарная общая точность по всей рабочей зоне: +15 мкм
Повторяемость: + 5 мкм
Точность воспроизведения размеров элементов: не хуже 3 мкм
Неровность края проводника: не хуже 4 мкм (по максимальному размаху)
Одновременное экспонирование заготовки сразу с двух сторон
(например, время экспонирования ДВУХ сторон
у заготовки размером 2000 мм х 500 мм будет менее 5 минут для фоторезиста
чувствительностью до 40 мДж/см2)
Широкий и полный УФ спектр источника экспонирования: 365 - 450 нм
Система автофокусировки для оптических головок
Минимальная гарантированная ширина проводника: 30 мкм
Минимальный размер структур (проводник / зазор): 30 мкм / 30 мкм
Большая мощность источника экспонирования: 4 - 1000 мДж/см2
Режимы экспонирования: легко выбираются простым нажатием кнопки
Динамическое нанесение серийных данных:
серийные номера, тайм-коды, штрих-коды 1D или 2D (QR-код, DataMatrix и др.)
при помощи карты
нанесения D-code или с помощью программы First EIE Serimark 2 Optional
Встроенный RIP:
- стандартные форматы входных данных: Gerber RS274D, RS274X, DPF, VID, EIE RPL
- по заказу: ODB++, PostScript, TIFF-PACKBITS, DXE, DWG и др.
- сеть: TCP-IP
Интерфейс для оператора:
сенсорный экран и программное обеспечение Remote Queue Manager, программа Wizards
позволяет быстро и легко выполнить настройку или калибровку
Освещение в рабочем помещении: в зависимости от типа фотоматериала (обычно - желтое)
Температура в рабочем помещении: 21 + 2оC (рекомендуемая)
Влажность в рабочем помещении: 50 + 10%
Габаритные размеры оборудования (ШхДхВ): 6000 мм х 2000 мм х 1700 мм
Вес: 1400 кг
Потребляемая мощность: 280 Вт (в режиме готовности), 800 Вт (экcпонирование)
Параметры электропитания: 1 ф./ ~230В + 10% (+ нейтраль, + земля), 50 Гц, 2000 Вт
Потребление сжатого воздуха: 56 л/мин
Давление сжатого воздуха: 6 бар
Документация:
- инструкция по эксплуатации на русском языке
- инструкция оператора на русском языке
Тестирование перед отгрузкой:
установка проходит полную проверку работоспособности перед отгрузкой с завода
Установка, сервисное обслуживание и техническая поддержка обеспечиваются высококвалифицированными специалистами нашей компании
и завода-изготовителя.
Возврат на предыдущую страницу
Наверх
